Datenbestand vom 19. Februar 2025
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aktualisiert am 19. Februar 2025

ISBN 9783843955935

42,00 € inkl. MwSt, zzgl. Versand


978-3-8439-5593-5, Reihe Anorganische Chemie

Shuangzhou Wang
Atomic Layer Deposition of Vanadium Oxide and Tantalum Oxide Thin Films for Resistive Switching Applications

194 Seiten, Dissertation Universität Köln (2022), Softcover, A5

Zusammenfassung / Abstract

Abstract / Leseprobe auf Anfrage verfügbar