ISBN 978-3-8439-0999-0

978-3-8439-0999-0, Reihe Nanotechnologie

Jens Bolten
Entwurf und Optimierung Elektronenstrahllithographie–basierter Herstellungsprozesse für die anwendungsorientierte Nanotechnologie

226 Seiten, Dissertation Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (2012), Softcover, A5

Zusammenfassung / Abstract

Die Erforschung des Nanokosmos und der Entwurf neuartiger in diesem Kosmos beheimateter Bauelemente setzt zunächst die Entwicklung der dafür benötigten Herstellungstechnologien voraus. Dabei stellt insbesondere die lithographische Definition von Strukturen mit kritischen Abmessungen oder kritischen Dimensionsabweichungen im Bereich einiger weniger Nanometer eine besondere Herausforderung dar.

Zur Bewältigung dieser herstellungstechnischen Herausforderung wurden im Rahmen der hier vorgelegten Arbeit Elektronenstrahllithographie-basierte Herstellungsprozesse entworfen und in Bezug auf wesentliche lithographische Qualitätskenngrößen wie Dimensionstreue und Linienbreitenschwankungen sowie -rauigkeiten optimiert.

Diese Optimierungen erlaubten die Herstellung einer Vielzahl verschiedener Bauelemente aus den Anwendungsfeldern SOI-Nanophotonik und SOI-Nanoelektronik, welche beide besonders hohe Anforderungen in Bezug auf die o.g. lithographischen Qualitätskriterien stellen.

In beiden Gebieten leisteten die im Rahmen dieser Arbeit hergestellten Bauelemente einen wesentlichen Beitrag zum Verständnis der zugrundeliegenden physikalischen Wirkmechanismen sowie zur Entwicklung einer in Bezug auf die wesentlichen Gütekriterien der jeweiligen Komponenten hochwertigen Herstellungstechnologie.