ISBN 978-3-8439-1256-3

978-3-8439-1256-3, Reihe Nanotechnologie

Ulrich Plachetka
Replikation von Mikro- und Nanostrukturen für optische Anwendungen

155 Seiten, Dissertation Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (2013), Softcover, A5

Zusammenfassung / Abstract

UV-Nanoimprint Lithographie (UV-NIL) ist eine auf Replikation beruhende alternative Technologie zur Elektronenstrahl- und Optischen-Lithographie, um Nanostrukturen zu erzeugen. In dieser Arbeit wird das Verfahren dargestellt, Schlüsselemente untersucht und die Anwendbarkeit für drei Applikationsfelder aus dem Bereich der Optik (Silizium-Photonik, Solarzellen & plasmonische Sensorik) aufgezeigt.